立式反应釜怎么自动清洗

立式反应釜清洗其实是很多工厂客户常见的痛点，尤其是化工、制药、食品等行业，经常会面临各种清洗难题。

下面长原小编将从实际应用角度给你讲一下自动清洗立式反应釜的常用方法、设备配置：

一、立式反应釜自动清洗的方法方案

1. CIP清洗系统（Clean-In-Place）：自动化高，效率快，人员无需进入釜内。

适用于不需要拆卸设备的在线清洗。

适用范围： 食品、制药、精细化工等卫生级别要求高的行业。

清洗步骤：

预冲洗（清水去残渣）

碱洗（去油脂、蛋白等有机污垢）

酸洗（去结垢、无机物）

冲洗干净

2. 高压喷淋球/三维旋转清洗喷头自动清洗

适合釜体内部结构简单、顶部留有安装口的设备。

配置：安装在釜顶法兰上，可360°喷洒清洗液。

有固定喷淋球、旋转清洗球、三维旋转清洗喷头三种。

特点：清洗死角少，可结合高温热水或化学溶液，适合挂壁、残留物较多的釜体

3. 移动式自动清洗装置

适合多釜共用或无法内置喷头的情况。

带有升降臂、喷杆、清洗头的移动系统

可穿透釜盖清洗整个内壁

清洗头可以高压旋转，冲刷釜壁、搅拌桨叶等部位

二、配置建议（实际案例）

项目                       推荐配置

清洗方式                CIP系统 + 自动旋转喷头

控制方式                PLC自动控制（可定时、设定流程）

清洗液                   碱性洗涤剂+酸性除垢剂（按物料选配）

清洗时间               10～40分钟（视污垢程度）

三、注意事项

喷头流量与压力匹配要合理，否则冲洗不彻底。

釜内搅拌器、温控探头等结构容易形成死角，需选对喷洗角度。

配合排液系统设计，避免污液残留。

可加装清洗验证装置（用于制药），如电导率、残留检测。